7月6日消息，法国工业气体巨头Air Liquide宣布计划投资逾1.7亿美元，在美国印第安纳州建设两座新生产装置，专门向SK hynix首座美国半导体晶圆厂供应超高纯气体。此举旨在支持推动AI革命的下一代存储芯片日益增长的需求。
超高纯气体（如高纯氮气、氩气、氦气及特种电子气体）是半导体制造不可或缺的基础材料，广泛应用于晶圆制造的刻蚀、化学气相沉积（CVD）、离子注入和清洗等关键工艺环节。一座先进制程晶圆厂每日需消耗数万立方米的超高纯气体，且纯度要求通常达到99.999999%（8N）以上。
SK hynix是全球第二大DRAM存储芯片制造商和HBM（高带宽存储）领导者，其HBM芯片是AI加速卡（如NVIDIA GPU）的关键配套组件。SK hynix在印第安纳州建设的晶圆厂是该公司在美国的首座生产基地，总投资预计超过百亿美元，瞄准的是美国《芯片与科学法案》补贴和AI算力基础设施建设的巨大需求。
Air Liquide的1.7亿美元投资反映了电子化学品供应链本土化的加速。在CHIPS法案推动下，台积电、三星、SK hynix等亚洲半导体巨头纷纷在美国建厂，但美国本土的电子化学品供应能力严重不足，大部分超高纯气体和电子特气仍依赖从亚洲和欧洲进口。Air Liquide作为全球四大工业气体公司之一，紧跟客户建厂是行业惯例——其竞争对手Linde、Air Products也都在积极扩张美国电子气体产能。
这一趋势对中国电子气体行业具有参考意义：国产电子特气的自主化进程正在加速，但在超高纯度等级和大规模供应稳定性方面与国际巨头仍有差距。
（来源：Process Worldwide）
